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분야 | 환경(I) > 대기 | ||||||||
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적용 범위 | 이 표준은 반도체 및 디스플레이 생산을 위하여 실리콘 포함 물질의 플라즈마 식각(etching)과 실리 콘이 침전되어 있던 화학증착(CVD) 기구의 내벽을 세정하는 데 사용되는 CF 4 , C2F6, C 3 F 8 , c-C 4 F 8 , c-C 4 F 8 O, C 4 F 6 , C 5 F 8 , CHF 3 , CH 2 F 2 , NF 3 , SF 6 등의 불소화합물과 N 2 O 등의 Non-CO 2 온실가스에 대한 온실가스 배출량 산정에 적용한다. | ||||||||
표준명(영어) | Stationary source emissions - Determination of Greenhouse Gas(GHG) emissions in semiconductor and display process | ||||||||
국제표준분류(ICS)코드 |
13.040.40 : 정류원 방사 |
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국제표준 부합화 | |||||||||
고시기관(고시번호) | 환경부 (제2018-26호) | ||||||||
고시사유 | 사회적 요청에 의한 표준화 | ||||||||
KS심사기준 |
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페이지수 | 18 |
표준번호 | 표준명 | 고시일 | 상태 | 고시사유 | 비고 |
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KS I 0588 | 고정 배출원-반도체 및 디스플레이 공정에서의 온실가스 배출량 산정방법 | 2023-12-29 | 개정(표준) | 자체 검토에 의한 개정 | |
KS I 0588 | 반도체 및 디스플레이 공정에서의 온실가스 배출량 산정방법 | 2018-06-19 | 제정(구판) | 사회적 요청에 의한 표준화 | |
확인 및 폐지 고시된 표준에 대해서는 마지막 제정 또는 개정 표준을 구입하시면 됩니다. |
No. | 표준번호 | 표준명 | 고시일 | 언어 | 제공형태 | 판매가격 | |
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1 | KS Q 1003 | 랜덤샘플링 방법 | 2024-05-30(확인) | 한글 | 18,600원 | ||
인용표준 2종 이상 선택 시 20% 할인 |
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